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國(guó)林科技 (sz300786) +添加自選
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  • 2025-08-18 11:45
    irm1347477:公司產(chǎn)品能進(jìn)行euv光刻膠的清洗嗎?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。光刻膠當(dāng)下主要是SPM工藝,該工藝可以滿足當(dāng)下制程的要求,但是因?yàn)榄h(huán)保與經(jīng)濟(jì)型的考慮,一直以來(lái)國(guó)內(nèi)外在開(kāi)始研究用臭氧清洗替代,但目前處于工藝交替的初期,并沒(méi)有完全成熟切換,根據(jù)工藝試驗(yàn),臭氧水用于不同光刻膠的處理需要不同的濃度,一般需要滿足85ppm以上的臭氧水濃度,目前國(guó)林半導(dǎo)體臭氧水發(fā)生器的濃度可以實(shí)現(xiàn)100ppm以上,最高到150ppm,因此可以滿足使用。隨著時(shí)間的推移以及工藝升級(jí)的需求,未來(lái)會(huì)是一種必然的趨勢(shì)。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-18 11:45
    irm1347477:在光刻技術(shù)方面,高純二氧化碳有2大用途。一是用于沉浸式光刻技術(shù),保證液體不從側(cè)面泄露出去,進(jìn)一步提高光刻分辨率。二是因其高純度和化學(xué)惰性,成為光刻機(jī)冷卻系統(tǒng)的理想選擇。其純度通常達(dá)到99.999%以上,能夠有效降低光源溫度,同時(shí)避免雜質(zhì)對(duì)光源和光學(xué)系統(tǒng)的污染。請(qǐng)問(wèn)公司的半導(dǎo)體級(jí)高純二氧化碳設(shè)備在技術(shù)上是否能滿足沉浸式光刻技術(shù)以及降低光刻機(jī)光源溫度的需要?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。光刻膠屬于有機(jī)物的一種,臭氧主要作用之一就是去除有機(jī)物,公司半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于光刻膠去除工藝。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-18 11:45
    irm1347477:目前為止,DUV光刻膠分為KrF248nm和ArF193nm兩種,而EUV光刻膠是CAR光刻膠。公司有針對(duì)duv和euv光刻膠特性不同,而開(kāi)發(fā)生產(chǎn)對(duì)應(yīng)的半導(dǎo)體臭氧涂膠顯影和光刻膠清洗設(shè)備嗎?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。光刻膠屬于有機(jī)物的一種,臭氧主要作用之一就是去除有機(jī)物,因此公司半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于光刻膠去除工藝。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-18 08:55
    irm1347477:公司的半導(dǎo)體臭氧設(shè)備400g/L,這是濃度指標(biāo)。而臭氧氣體純度指標(biāo),指的是臭氧氣體的純凈度,即臭氧以外的雜質(zhì)含量多少,在業(yè)內(nèi)通用都是用%來(lái)表示,多少個(gè)9數(shù)字就代表多少N。同類型的公司比如天津奧爾斯曼,比如美國(guó)mks,在其半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器的產(chǎn)品參數(shù)中,都有標(biāo)注其產(chǎn)生的臭氧氣體純度達(dá)99.9995%,為6N水準(zhǔn)。通常公認(rèn)半導(dǎo)體級(jí)氣體的純度必須要達(dá)到至少5N,所以請(qǐng)問(wèn)公司的臭氧設(shè)備產(chǎn)生的臭氧氣體純度多少
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。關(guān)于產(chǎn)品詳情及公司研發(fā)情況請(qǐng)您關(guān)注公司官方網(wǎng)站及指定信息披露媒體。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-15 16:10
    irm1347477:恭喜公司順利復(fù)產(chǎn),請(qǐng)問(wèn)公司停產(chǎn)期間,是否將晶體乙醛酸庫(kù)存處理完畢?做到輕裝上陣?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。具體經(jīng)營(yíng)情況請(qǐng)您關(guān)注公司定期報(bào)告。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-15 16:04
    irm1347477:公司在2024年報(bào)中提到公司的半導(dǎo)體設(shè)備已經(jīng)在國(guó)內(nèi)晶圓芯片終端(fab)廠正式投入使用,請(qǐng)問(wèn)是否屬實(shí)?是國(guó)內(nèi)頭部的fab廠嗎?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。公司相關(guān)情況請(qǐng)您以公司于指定信息披露媒體刊登的公告為準(zhǔn)。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:相比傳統(tǒng)等離子蝕刻,臭氧蝕刻對(duì)基材損傷更小,適用于高精度圖形化工藝。減少熱應(yīng)力,避免第三代半導(dǎo)體材料(如碳化硅)因高溫導(dǎo)致的晶格缺陷。公司到底有沒(méi)有蝕刻工藝的臭氧設(shè)備?能否用于第三代半導(dǎo)體制造?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。公司現(xiàn)有半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于蝕刻工藝、第三代半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:美國(guó)mks官網(wǎng)上顯示其最先進(jìn)的半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧純度為99.9995%,即6N水準(zhǔn)。該產(chǎn)品已用于臺(tái)積電3nm芯片生產(chǎn)線。請(qǐng)問(wèn)公司的同類型半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器的臭氧純度為多少?是多少N的水準(zhǔn)?能否達(dá)到同樣3nm芯片生產(chǎn)的要求?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。純度指的是濃度,用mg/L單位來(lái)表示,99.9995%屬于描述不符。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:pcn印刷電路板,在焊接、組裝等工藝后,表面可能會(huì)殘留助焊劑、油污等。臭氧可以快速有效清洗這些污物。請(qǐng)問(wèn)公司的臭氧設(shè)備能否滿足pcb印刷電路板的清洗?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。國(guó)林半導(dǎo)體現(xiàn)有產(chǎn)品具備廣泛的應(yīng)用適應(yīng)性,能夠滿足各類場(chǎng)合中臭氧清洗的需求。感謝您的關(guān)注。
  • 2025-08-15 15:55
    irm1347477:某國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體臭氧設(shè)備廠商宣稱其設(shè)備產(chǎn)生的超純臭氧氣體純度達(dá)99.9995%,即5N水準(zhǔn)。請(qǐng)問(wèn)公司的臭氧設(shè)備能產(chǎn)生的半導(dǎo)體級(jí)超純臭氧氣體純度為多少?二氧化碳設(shè)備產(chǎn)生的半導(dǎo)體級(jí)二氧化碳?xì)怏w純度為多少?
    國(guó)林科技:尊敬的投資者,您好。純度指的是濃度,用mg/L單位來(lái)表示。99.9995%屬于描述不符。感謝您的關(guān)注。
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